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直流濺射電源采用國(guó)外最新微電子PWM控制技術(shù)，擁有靈敏的過流（滅?。┍Ｗo(hù)，內(nèi)置電子電抗負(fù)載匹配性能優(yōu)異。同時(shí)本電源穩(wěn)定性能極佳，被廣泛應(yīng)用在太陽(yáng)能真空集熱管鍍膜設(shè)備、鋁鏡磁控濺射連續(xù)線、陶瓷多弧磁控濺射鍍膜設(shè)備、ITO氧化銦錫濺射鍍膜設(shè)備等諸多領(lǐng)域。
直流磁控濺射電源主要性能優(yōu)勢(shì)：
1.全球先進(jìn)的PWM控制技術(shù)
2.高精度恒流控制,膜層更均勻
3.靈敏的過流(滅弧)保護(hù)
4.負(fù)載匹配性能優(yōu)異
5.超穩(wěn)定機(jī)芯結(jié)構(gòu)
6.超小體積，美觀又實(shí)用的空間設(shè)計(jì)
Direct Current (DC) Magnetron Sputtering Power Supply main performance advantages:
1. World-leading PWM (Pulse Width Modulation) control technology.
2. High-precision constant current control for a more uniform film layer.
3. Sensitive overcurrent (arc extinguishing) protection.
4. Exceptional load matching performance.
5. Ultra-stable core structure.
6. Compact size with a beautiful and practical spatial design.
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